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教員の表彰

電子工学研究所 中本正幸教授ら、18th International Display Workshops (IDW’11)で「Best Paper Award (最優秀論文賞)」 を受賞

2012.01.13

電子工学研究所 ディスプレイ分野 中本研究室 中本教授、文助教、黒田君(M1)が、Society for Information Display(SID,参加者約1万人)についで最も権威ある18th International Display Workshops(IDW'11、2011年12月7日~9日,参加者約1800人、 採択論文数534件))において、「Best Paper Award (最優秀論文賞)」 を受賞しました。

中本教授は、独自に考案した転写モールド法電界電子放出エミッタ作製技術を用いて、様々なエミッタ材料・デバイス研究に取り組んできましたが、今回、世界最小の基底部長さ36nm、しかも先端曲率半径が2.6nmと鋭く、均一形状で、大面積可能なエミッタを試作し、世界最小の電流変動±1.6%を抵抗バラスト層無しで達成しました。
従来、電界電子放出エミッタの電流変動は、抵抗バラスト層形成したエミッタで5-100%、抵抗バラスト層無しのエミッタでは100%以上にも達し、電子回路を用いて狭い面積を安定化できても、大面積化は技術的・コスト的に不可能でした。エミッタの微小化は様々な研究機関が試み(2001年、米国MITが基底部長さ100nmの従来の世界最小エミッタを試作)ましたが、不均一で先端が鋭くなく不成功に終わりました。また、電界電子放出特性に関して理論と実験結果が一致しないことが、研究開発のひとつの障害になっていました。しかし、均一で先鋭且つ安定な転写モールド法エミッタにより、理論と実験結果がほぼ一致することが確認できました。
独自考案の転写モールド法による均一で安定な世界最小エミッタの試作成功は次世代高性能ディスプレイ実現の大きなブレークスルーであることが評価され、受賞しました。


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