森谷 真夕さん(工学専攻/脇谷・坂元・川口研究室)が日本セラミックス協会 第44回電子材料研究討論会にて「奨励賞」を受賞
森谷 真夕さん(総合科学技術研究科 工学専攻 電子物質科学コース/脇谷・坂元・川口研究室)が、2024年11月21~22日に慶應義塾大学(日吉キャンパス)で開催された日本セラミックス協会 第44回電子材料研究討論会において「奨励賞」を受賞しました。
発表題目:「フラックス法を用いたLiイオン固体電解質LLZTOエピタキシャル薄膜の作製」
日本セラミックス協会 第44回電子材料研究討論会 ウェブサイト:
https://www.ceramic.or.jp/bdenshi/activity03/activity03_2024.html
脇谷・坂元・川口研究室 ウェブサイト:
https://wwp.shizuoka.ac.jp/ceramics/